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日本musashino自动搅拌磨料喷射/喷雾装置
¥32600日本musashino精密刀片锯片切割机高性能
¥35500日本进口musashino精密刀片切割机铁基材料
¥38600日本st-flow高精度分配各种粘度液体分配器
¥2130日本MIKASA晶圆表面涂抹设备半导体用涂布机
¥12600日本MIKASA小型高性能旋涂机涂布机洁净室用
¥12000日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层
¥11200kelk凯尔克电子冷却除湿器环境污染分析装置
¥33200凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体
¥36500日本Junkosha脱气模组高性能分析高纯度流体
¥2660Adwill-Global全自动多功能晶圆贴合研磨机
¥29800Adwill-Global全自动研磨用保护胶带贴合机
¥26500日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 特点介绍
全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。
干燥采用热纯水干燥,而不是传统的气刀干燥,并采用免调节设计,省去了水飞溅调节的麻烦。 热纯水干燥
对应的面罩尺寸,最多7英寸。专用盒最多可装20张。
日本进口techvision全自动光掩膜清洗装置 TWC-200A 规格参数
・轻松去除附着在掩模上的抗蚀剂
・轻松移除蒙版上的粒子
・清洗液开发对环境友好的温和的水溶性药液
・从热硫酸和硫酸过水等危险中解脱出来
・不需要昂贵的去除剂和显影液
用途:平板显示器,MEMS器件,精细图案PCB/FPC/TAB,化合物半导体,薄膜电子元件等。
TWC系列可同时去除附着在掩模上的抗蚀剂和颗粒。使用专用药液去除抗蚀剂和TW系列培养的颗粒去除技术,有助于提高口罩的清洁度。
全自动光掩膜清洗装置《TWC-200A》是一下子去除附着在掩模上的1μm以上的颗粒和抗蚀剂残渣的to盒的全自动光掩膜清洗装置。
干燥采用热纯水干燥,而不是传统的气刀干燥,并采用免调节设计,省去了水飞溅调节的麻烦。 热纯水干燥
对应的面罩尺寸,最多7英寸。专用盒最多可装20张。