日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度
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UV-208/UV-312日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度

参考价: 订货量:
8800 100

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2024-06-21 10:22:07
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产地类别:进口;应用领域:环保,能源,电子,电气,综合;
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深圳秋山工业设备有限公司

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产品简介

日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312

所谓UV(紫外线)臭氧清洗装置,是指照射特定波长的紫外线,生成臭氧(O3),利用该生成的臭氧使有机化合物氧化·分解,从而去除工件表面的有机物污染,进行表面改性的UV臭氧清洗装置。

详细介绍

日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312 特点介绍


所谓UV(紫外线)臭氧清洗装置,是指照射特定波长的紫外线,生成臭氧(O3),利用该生成的臭氧使有机化合物氧化·分解,

从而去除工件表面的有机物污染,进行表面改性的UV臭氧清洗装置。

紫外线(UV)臭氧紫外UV-208、UV-312在UV光源中采用了高密度网格形状的低压水银灯。

采用高密度网格状灯,可均匀照射整个工作区域。


日本techvision紫外线臭氧UV清洗装置高精度 UV-208/UV-312 规格参数


1使用高密度UV栅格灯。 

2对工作表面照射均匀。 

3节省空间、紧凑设计。 

4简单的实用程序。 

5易于操作,内置安全功能。 

通过臭氧清洗和UV(紫外线)照射的表面改性,表面上的污垢(疏水性)被去除和清洗,润湿性(变成亲水性)(水滴扩散)。

润湿性的变化可以通过液体与固体表面接触时的接触角的变化(减小)来确认。润湿性的改变也会导致附着力的提高。

1清洗半导体晶片,光掩模,玻璃基板和光学元件。 

2树脂零件的表面改性。 

3以提高粘附性,涂层,印刷,气相沉积,焊料等的粘附性。 

4改善工作表面的润湿性。 

UV臭氧清洗原理

臭氧生成大气中的氧气(O2)吸收波长为184.9 nm的紫外线,生成臭氧(O3) 

臭氧分解产生的臭氧(O3)还能吸收波长为253.7 nm的紫外线,产生O2和活性氧(O*) 

有机物分解(清洗、表面改性)非常不稳定的活性氧(O*)与有机化合物结合,氧化分解为H2O,CO2,NOx等气体(与有机化合物结合,进行清洗和表面改性)。 


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