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面议日本ULVAC爱发科半导设备化学气相沉积设备
日本ULVAC爱发科半导设备化学气相沉积设备
单片式PE-CVD设备CME-200E/400是适合批量生产的PE-CVD设备，适合形成硅基绝缘膜、阻挡膜等。
27.12MHz高密度等离子工艺
SiH 4型：SiO 2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS 型：可提供 SiO 2薄膜
可使用NF 3 +Ar 等离子体清洁腔室
可配备用于有机EL低温成膜的加热器
通过托盘传送支持最大尺寸为□200mm的电路板（CME-200E）（支持CME-400：300×400）
功率器件
LED、LD、高速器件
有机EL
太阳能电池
微机电系统
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