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日本ULVAC爱发科半导体光电干法刻蚀设备
日本ULVAC爱发科半导体光电干法刻蚀设备
用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蚀系统是配备磁中性线等离子体（NLD）源的用于大规模生产的干法刻蚀系统。 （采用磁中性线等离子体（NLD）的低压、低电子温度、高密度等离子体的干式蚀刻设备，由ULVAC原创开发。）
通过在洁净室内工作，洁净室可以扩展到两个房间（NLD、磁场ICP、CCP和灰化室）。
NLD是一种可以在空间和时间上控制的等离子体，因此干洗很容易。
实现轻松的腔室维护。
我们提供从掩模蚀刻到石英和玻璃蚀刻的工艺解决方案。
半导体技术研究院提供完善的工艺支持系统。
光学器件（衍射光栅、调制器、光波导、光开关等）、不均匀微透镜。
流体路径创建 (μ-TAS) 和光子晶体。
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