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日本ULVAC爱发科高密度等离子刻蚀设备
日本ULVAC爱发科高密度等离子刻蚀设备
研究开发的高密度等离子蚀刻系统NE-550EX是采用磁场ICP（ISM=感应超级磁控管）方式的高密度等离子蚀刻系统，为单晶圆型，标配LL室。 ，使其结构紧凑且价格低廉。
与其他ICP方式相比，磁场辅助可在更低的压力、更低的电子温度和更高的密度下产生等离子体，并且可以进行从离子蚀刻到自由基蚀刻的广泛等离子体控制，因此作为开发工具适用于各种工艺。
配备“星形电极”，防止沉积物粘附在射频输入窗口上。该设备还具有加热功能，其设计注重再现性和稳定性。
我们实现了作为研发工具的可靠性，例如高可靠性的运输机器人、简单的装置结构和易于维护。
丰富的可选功能，可增设暗盒室。
NE-5700和NE-7800可兼容同一个腔体配置的多个腔体，适用于大规模生产线。
复合材料（LED、LD、高频器件、功率器件）。
电极、金属布线、有机薄膜、陶瓷等加工
用于加工难以蚀刻的材料，如铁电体、贵金属和磁性薄膜。
纳米压印、NEMS、MEMS、各种传感器。
生物芯片、微流控器件、光子晶体等
| 物品 | 规格 |
| 系统配置 | 研发/样机设备+装载锁室 |
| 板尺寸 | ～150毫米 |
| 工作压力（Pa） | 0.07~6.7 |
| 面内/面间均匀性 | 最大±3% |
| 基板温度控制 | 静电吸盘 |
