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日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备
日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备
适合量产的NE-5700/NE-7800干法刻蚀设备是一款可扩展的刻蚀设备，支持从一个腔室到多个腔室，强调性价比。
除1个腔体外，还可配备磁场ICP（ISM）、NLD等离子体源、灰化腔体、CCP腔体，兼容多种刻蚀工艺。
配备星形电极和各种温度控制功能，可实现过程的再现性和稳定性。
易于维护的结构，停机时间最短，全面的备份系统，包括再生清洁、零件供应、维护和培训服务。
半导体技术研究院提供完善的工艺支持系统。
化合物（LED、LD、高频器件）和功率器件（IGBT 布线加工、SiC 加工）。
用于金属布线、层间绝缘膜（树脂类）、栅电极加工工序。
用于蚀刻铁电材料和贵金属。
用于加工磁性材料。
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