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无掩膜激光直写光刻机-MicroWriter ML3
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昱臣半导体技术（香港）有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商，昱臣半导体技术（香港）有限公司所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体企业。
昱臣半导体技术（香港）有限公司目前代理的主要产品包括：
- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System)；
- 快速退火炉(RTP)；
- 回流焊炉，真空烧结炉(Reflow Solder System)；
- 探针台(Probe Station)，低温探针台(Cryogenic Probe Station)；
- 贴片机(Die Bonder)，划片机(Scriber)，球焊机/锲焊机(Wire Bonder)；
- 原子层沉积系统(ALD)，等离子增强原子层沉积设备(PEALD)；
- 磁控溅射镀膜机(Sputter)，电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)，热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator)，脉冲激光沉积系统(PLD) ;
- 低压化学气相沉积系统(LPCVD)，等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)，快速热化学气相沉积系统(RTCVD)；
- 反应离子刻蚀机(RIE)，ICP刻蚀机，等离子体刻蚀机；
- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler)；
- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate)；
- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe)，光反射膜厚仪(Reflectometer)；
- 高温超导磁体(HTS Magnet)，快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer)；
详细信息
小型台式无掩膜光刻机- MA1200
小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品特点
Focus Lock自动对焦功能 | 光学轮廓仪 |
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标记物自动识别 | 直写前预检查 |
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简单的直写软件 | Clewin 掩膜图形设计软件 |
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