产品

customized 多腔等离子体工艺系统

customized 多腔等离子体刻蚀系统

SENTECH 集群系统 等离子刻蚀集群系统

SENTECH SI 500 CCP RIE等离子刻蚀系统

SENTECH SI 591 等离子刻蚀系统RIE

SENTECH Etchlab 200 RIE RIE等离子蚀刻系统

RIE-350iPC 等离子体（ICP）刻蚀设备

SENTECH SI 500 C 低温ICP-RIE等离子体刻蚀系统

LMEC-300 12英寸特种金属膜层刻蚀设备

Pangea® A 系列 12英寸离子束塑形（IBS) 设备

RIE-200NL RIE等离子刻蚀系统

Lorem® A 系列 8英寸离子束塑形（IBS）设备

Ganister™ A 系列 8英寸离子束沉积（IBD）设备

Herent® Chimera® A 12英寸硬掩膜刻蚀设备

Herent® Chimera® M 12英寸金属刻蚀设备

Tebaank® Pishow® P 8英寸硅刻蚀设备