产品

Ganister™ A 系列 8英寸离子束沉积（IBD）设备

Herent® Chimera® A 12英寸硬掩膜刻蚀设备

Herent® Chimera® M 12英寸金属刻蚀设备

Tebaank® Pishow® P 8英寸硅刻蚀设备

Kessel® Pishow® M 8英寸金属刻蚀设备

Pishow® A 系列 8英寸电感耦合等离子体刻蚀设备

Pishow® D 系列 8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀设备

Haasrode® Avior® A 电容耦合等离子体刻蚀（CCP）设备

Shale® C 系列 8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积设备

RIE200/Plus 反应离子刻蚀机

RIE-230iPC 等离子体（ICP） 刻蚀设备

PlasmaPro 100 ALE 原子层刻蚀

SI 500 C 等离子体蚀刻系统

SENTECH SI 500 ICP-RIE 等离子蚀刻系统

Etchlab 200 开盖等离子蚀刻系统

FEMTO 德国Diener等离子清洗机